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先端的な半導体等のデバイスプロセス装置の実用化開発に取り組む
事業者に対し補助を行い実用化開発を支援します。


先端的デバイスプロセス装置技術開発補助事業

 

対象となる者

新たな市場創出や社会ニーズに対応する技術開発を行う民間企業等です。

 

対象となる事業

リソグラフィー・マスク関連分野、エッチング・CVD等のウエハプロセス関連分野、欠陥検査・計測装置関連分野に係る技術開発であって、補助事業終了後3年程度で実用化できる技術開発事業が対象となります。

 

施策の内容

事業に係る経費をNEDOが補助します。
〔補助金額〕 1件あたり2億円以内/年
〔補助期間〕 3年以内
〔補助率〕 補助対象経費の1/2以内

 

手続の流れ
  1. NEDOに対し、補助金交付申請書を提出し応募
  2. NEDO内に設置した外部学識経験者による審査委員会の評価・審査を経て、交付対象を決定
  3. NEDOから、補助金交付
  4. NEDOに対し、実績報告書を提出

 

募集期間(平成13年度分)

NEDO:平成13年5月中旬〜6月中旬を予定しています。

 

問い合わせ先

NEDO研究開発業務部 研究業務室 TEL:03-3987-9326

 



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